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| 采购项目名称 | 氩离子刻蚀枪 | 采购项目编号 | 清采比选20260094号 |
|---|---|---|---|
| 公告开始时间 | 2026-01-23 00:16:47 | 公告截止时间 | 2026-01-26 01:00:00 |
| 对外联系人 | 本项目不接受咨询 咨询通道已关闭 | 联系电话 | 本项目不接受咨询 咨询通道已关闭 |
| 签约时间要求 | 成交后5个工作日内 (如不按时签订合同，采购单位有权取消或变更采购结果) | 交货时间要求 | 签订合同后120个自然日内 |
| 采购单位 | 清华大学 | ||
| 最高限价 | ￥ 120,000.00 未公布 | ||
| 国内合同付款方式 | 合同签订后70%，验收合格后30% | ||
| 交货地址 | 北京市清华大学 | ||
| 供应商特殊资质要求 |
无 |
||
采购清单1
| 物资名称 | 采购数量 | 计量单位 |
|---|---|---|
| 氩离子刻蚀腔 | 1 | 台 |
| 品牌 品牌1 | |
|---|---|
| 型号 | |
| 品牌2 | |
| 型号 | |
| 品牌3 | |
| 型号 | |
| 单价 | ￥ 120,000.00 |
| 技术参数及配置要求 | 氩离子枪（Ion Gun）技术参数说明 设备类型：抽取式离子枪（Extractor Type Ion Gun），用于样品表面清洗与离子刻蚀处理 工作气体：高纯氩气（Ar） 主要技术参数： • 安装法兰：DN 40CF（ConFlat 非旋转法兰接口） • 能量范围：0.12 keV – 5.00 keV（可调离子能量） • 电流密度：>120 μA/cm²（测量距离 20 mm 条件下） • 离子束流密度：典型可达 70 μA/cm²（氩气条件，束斑呈高斯分布） • 工作距离：30 – 250 mm • 束斑直径（FWHM）：与离子能量及工作距离相关（例如：工作距离 30 mm 时约 3 mm） • 工作真空度：< 1×10⁻⁴ – 1×10⁻⁶ mbar • 烘烤温度（Bakeout）：最高 250 ℃ • 阴极类型：氧化钇涂层铱阴极（Yttrium oxide coated iridium cathode） • 插入长度：最小 62.5 mm（可定制） • 工作环境温度：存储温度 −40 ℃ ～ 70 ℃ • 相对湿度：≤ 60% 系统配置要求： • 需配套专用电源控制系统使用 • 需配置气体泄漏阀（Leak Valve）实现精确气体导入与稳定工作压强控制 • 适用于超高真空（UHV）系统环境，满足表面科学、薄膜生长、样品表面清洗与刻蚀等实验需求 功能特点： • 高稳定性离子束输出 • 可控能量与束流密度调节 • 束斑均匀、空间分布稳定 • 适用于 STM、ARPES、MBE、UHV ***平台集成 • 满足科研级精密表面处理与离子刻蚀应用需求 |
| 质保期 | 12个月 |
清华大学
2026-01-23 00:16:47
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本公告地址：https://www.17bid.cn/view/11858/7i436JsBJ4i9JSOwLLzU.html
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